Нанопечать вместо EUV-литографии: Япония хочет удешевить создание чипов 1,4 нм

В полупроводниковой промышленности может появиться более доступный метод производства чипов с нормами 1,4 нм. Речь идет о технологии нанопечати, которую развивают японские компании Canon и Dai Nippon Printing (DNP). Сейчас для создания самых современных чипов используется EUV-литография. Оборудование для нее, производимое нидерландской ASML, крайне дорогое и энергоемкое, а японские инженеры предлагают другой подход, напоминающий принцип штамповки.

Суть метода заключается в том, что на кремниевую пластину наносится специальный материал, а специальная установка создает на нем микроскопический рисунок методом печати. Этот шаблон затем используется для травления структуры будущего процессора. По предварительным оценкам, такое оборудование потребляет на 90% меньше электричества, а его стоимость измеряется миллионами, а не сотнями миллионов долларов.

Осенью 2024 года первые образцы установок были направлены в Intel для изучения. Позднее к технологии также проявили интерес Samsung, TSMC и другие крупные игроки рынка. Массовое производство необходимых материалов для 1,4-нм чипов компания DNP планирует начать в 2027 году, но устоявшаяся отрасль, полностью построенная вокруг фотолитографии, может замедлить внедрение новой технологии. Переход на нее потребует от производителей значительной перестройки существующих производственных линий.

Если метод нанопечати докажет свою надежность и экономическую эффективность в массовом производстве, он может изменить баланс сил на рынке оборудования для создания полупроводников и сделать производство передовых чипов менее зависимым от единственного технологического пути.

Интересно, что параллельно с разработкой альтернативных методов, таких как японская нанопечать, традиционная литография тоже не стоит на месте. Компания Intel, как один из потенциальных заказчиков новой технологии, активно развивает и собственные передовые техпроцессы. По последним данным, её следующий узел 14A, создаваемый с применением новейшей литографии High-NA EUV, демонстрирует рекордные темпы разработки.